真空納米鍍膜工藝過(guò)程

時(shí)間:2019-03-28| 作者:Admin

真空納米鍍膜沉積過(guò)程分爲三步: 

1.首先在真空條件下, 以120℃將(jiāng)固态粉末狀的對(duì)二甲苯的二聚物 (di-para-xylylene; dimer) 加熱汽化;

2.然後(hòu)以650℃ 將(jiāng)氣态的對(duì)二甲苯的二聚物 ,裂解爲對(duì)二甲苯 (para-xylylene) 的 活性單體(monomer);

3.最後(hòu)氣态活性單體在室溫下沉積并聚合成(chéng)聚對(duì)二甲苯 (Poly-para-xylylene )的薄膜。

      當氣态單體進(jìn)入沉積腔室,首先會(huì)彌漫在工件表面(miàn),當吸附到各個表面(miàn)後(hòu)開(kāi)始聚合和結晶,直接形成(chéng)固體,避免了液相的出現,清除了厚度的不均勻和塗層的缺陷。(應用領域:LED行業、電子行業、醫療器械、印刷電路闆、微電子、磁性行業、半導體、橡塑産品、文物保護、特殊領域)工能(néng):絕緣強和耐高溫,抗腐蝕、耐酸堿、潤滑、防塵、防潮、透明、防水、抗老化。

真空納米鍍膜工藝流程圖.jpg